Katika utengenezaji wa nusu-semiconductor, mashine ya fotolithografia ni kifaa muhimu kinachoamua usahihi wa chipsi, na msingi wa granite, pamoja na sifa zake nyingi, umekuwa sehemu muhimu ya mashine ya fotolithografia.
Uthabiti wa joto: "Ngao" dhidi ya Mabadiliko ya Joto
Mashine ya fotolithografia inapofanya kazi, hutoa joto kubwa. Hata mabadiliko ya halijoto ya 0.1℃ pekee yanaweza kusababisha mabadiliko ya vipengele vya vifaa na kuathiri usahihi wa fotolithografia. Mgawo wa upanuzi wa joto wa granite ni mdogo sana, ni 4-8 ×10⁻⁶/℃ pekee, ambayo ni takriban 1/3 ya ile ya chuma na 1/5 ya ile ya aloi ya alumini. Hii huwezesha msingi wa granite kudumisha uthabiti wa vipimo wakati mashine ya fotolithografia inafanya kazi kwa muda mrefu au wakati halijoto ya mazingira inabadilika, kuhakikisha uwekaji sahihi wa vipengele vya macho na miundo ya mitambo.
Utendaji bora wa kuzuia mtetemo: "Sifongo" inayofyonza mtetemo
Katika kiwanda cha nusu-semiconductor, uendeshaji wa vifaa vinavyozunguka na mwendo wa watu vyote vinaweza kutoa mitetemo. Itale ina msongamano mkubwa na umbile gumu, na ina sifa bora za unyevunyevu, ikiwa na uwiano wa unyevunyevu mara 2 hadi 5 ya metali. Wakati mitetemo ya nje inapopitishwa kwenye msingi wa granite, msuguano kati ya fuwele za ndani za madini hubadilisha nishati ya mtetemo kuwa nishati ya joto kwa ajili ya kutawanya, ambayo inaweza kupunguza kwa kiasi kikubwa mtetemo kwa muda mfupi, ikiruhusu mashine ya fotolithografia kurejesha haraka utulivu na kuepuka kufifia au kutoweka kwa mpangilio sahihi wa fotolithografia kutokana na mtetemo.
Uthabiti wa Kemikali: "Mlinzi" wa Mazingira Safi
Sehemu ya ndani ya mashine ya fotolithografia hugusana na kemikali mbalimbali, na vifaa vya kawaida vya chuma vinaweza kutu au kutolewa kwa chembe. Itale imeundwa na madini kama vile quartz na feldspar. Ina sifa thabiti za kemikali na upinzani mkubwa wa kutu. Baada ya kulowekwa kwenye myeyusho wa asidi na alkali, kutu ya uso ni ndogo sana. Wakati huo huo, muundo wake mnene hautoi uchafu au vumbi, ikikidhi mahitaji ya viwango vya juu vya usafi na kupunguza hatari ya uchafuzi wa wafer.
Urahisi wa usindikaji: "Nyenzo bora" ya kuunda vigezo sahihi
Vipengele vya msingi vya mashine ya fotolithografia vinahitaji kusakinishwa kwenye uso wa marejeleo wenye usahihi wa hali ya juu. Muundo wa ndani wa granite ni sawa na ni rahisi kusindika kwa usahihi wa hali ya juu sana kupitia kusaga, kung'arisha na mbinu zingine. Ulalo wake unaweza kufikia ≤0.5μm/m, na ukali wa uso Ra ni ≤0.05μm, na kutoa msingi sahihi wa usakinishaji wa vipengele kama vile lenzi za macho.
Muda mrefu wa maisha na bila matengenezo: "Vifaa vikali" vya kupunguza gharama
Ikilinganishwa na vifaa vya chuma ambavyo vinaweza kuchoka na kupasuka kwa matumizi ya muda mrefu, granite mara chache hupitia mabadiliko au kuvunjika kwa plastiki chini ya mizigo ya kawaida, na haihitaji matibabu ya uso, hivyo kuepuka hatari ya mipako kung'oa na uchafuzi. Katika matumizi ya vitendo, baada ya kutumika kwa miaka mingi, viashiria muhimu vya utendaji wa msingi wa granite bado vinaweza kubaki thabiti, na kupunguza gharama za uendeshaji na matengenezo ya vifaa.
Kuanzia uthabiti wa joto, upinzani wa mtetemo dhidi ya uimara wa kemikali, sifa nyingi za msingi wa granite zinakidhi kikamilifu mahitaji ya mashine ya fotolithografia. Kadri mchakato wa utengenezaji wa chipu unavyoendelea kukua kuelekea usahihi wa juu, besi za granite zitaendelea kuchukua jukumu lisiloweza kubadilishwa katika uwanja wa utengenezaji wa nusu-semiconductor.
Muda wa chapisho: Mei-20-2025